一种阵列基板及其制备方法和显示装置

发明专利有效专利

申请号：
CN201410081554.9
IPC分类号：G02F1/1362;G02F1/1368
申请日期：
2014-03-06
申请人：
京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司

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专利名称	一种阵列基板及其制备方法和显示装置
申请号	CN201410081554.9	申请日期	2014-03-06
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2014-07-23	公开/公告号	CN103941505A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02F1/1362 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02F 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器〔2，4〕 G02F1/00 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学〔2，4〕 G02F1/01 对强度、相位、偏振或颜色的控制（G02F 1/29、G02F 1/35优先）〔2，7〕 G02F1/13 基于液晶的，例如单位液晶显示单元〔2〕 G02F1/133 构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置（用于控制矩阵中液晶元件并且在结构上不与这些元件相连的装置或电路入G09G 3/36）〔3，7〕 G02F1/136 结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元，例如形成集成电路部分的液晶单元（G02F 1/135优先）〔5〕 G02F1/1362 有源矩阵寻址单元〔7〕	IPC分类号	G;0;2;F;1;/;1;3;6;2;;;G;0;2;F;1;/;1;3;6;8查看分类表>
申请人	京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司	申请人地址	北京市朝阳区酒仙桥路10号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	京东方科技集团股份有限公司,北京京东方光电科技有限公司	当前权利人	京东方科技集团股份有限公司,北京京东方光电科技有限公司
发明人	沈奇雨
代理机构	北京同达信恒知识产权代理有限公司	代理人	黄志华

摘要

本发明提供了一种阵列基板及其制备方法和显示装置，用以解决现有技术中阵列基板制作工艺复杂、成本高、耗时长的问题，同时达到增大开口率的目的。其中，所述阵列基板包括衬底基板以及在所述衬底基板上呈矩阵排列的像素单元，所述像素单元内设置有薄膜晶体管、第一电极和第二电极，所述薄膜晶体管包括栅极、第一绝缘层、有源层、源极和漏极；所述阵列基板还包括位于所述第一电极上方的黑矩阵，所述黑矩阵覆盖每一像素单元的非显示区域。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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