一种在微流体芯片上加工纳米通道的方法

发明专利无效专利

申请号：
CN201010103294.2
IPC分类号：B81C1/00
申请日期：
2010-01-29
申请人：
大连海事大学

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著录项信息

专利名称	一种在微流体芯片上加工纳米通道的方法
申请号	CN201010103294.2	申请日期	2010-01-29
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2010-07-14	公开/公告号	CN101774532A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B81C1/00 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B8 微观结构技术；纳米技术 B81 微观结构技术〔7〕 B81C 专门适用于制造或处理微观结构装置或系统的方法或设备（制造微胶囊或微球入B01J13/02；专门适用于制造或处理压电器件、电致伸缩器件或磁致伸缩器件的方法或设备本身入H01L41/22）〔7〕 B81C1/00 在基片内或其上制造或处理的装置或系统（B81C 3/00优先）〔7〕	IPC分类号	B;8;1;C;1;/;0;0查看分类表>
申请人	大连海事大学	申请人地址	辽宁省大连市甘井子区凌海路1号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	大连海事大学	当前权利人	大连海事大学
发明人	宋永欣;李冬青
代理机构	大连东方专利代理有限责任公司	代理人	李洪福

摘要

本发明公开了一种在微流体芯片上加工纳米通道的方法，包括如下步骤：先制备具有混合液注入通道和主通道的微米级通道的芯片，再将具有合适粘度的液体PDMS与固化剂混合液注满到混合液储液孔中，使混合液沿混合液注入通道流入到主通道中，当距离主通道的远侧面3～4μm时，立即在缓冲液储液孔中加入等量的缓冲液，将圆柱状PDMS塞入混合液储液孔中，并用透明胶密封混合液储液孔和缓冲液储液孔，当PDMS完全固化后，就会在紧靠主通道的远侧面处形成一定长度的纳米级通道。本发明加工十分简单、方便和快速；可根据需要，结合不同的芯片结构设计，实现不同结构的纳米通道，且纳米通道与芯片的集成是自然而成的，因此是一种通用的方法。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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