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保护膜、用于晶圆划片膜的基材薄膜及其制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201510136593.9
  • IPC分类号:C08L23/06;C08L23/08;C08L31/04;B29C69/00
  • 申请日期:
    2015-03-26
  • 申请人:
    威士达半导体科技(张家港)有限公司
著录项信息
专利名称保护膜、用于晶圆划片膜的基材薄膜及其制造方法
申请号CN201510136593.9申请日期2015-03-26
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2015-07-22公开/公告号CN104788775A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C08L23/06IPC分类号C;0;8;L;2;3;/;0;6;;;C;0;8;L;2;3;/;0;8;;;C;0;8;L;3;1;/;0;4;;;B;2;9;C;6;9;/;0;0查看分类表>
申请人威士达半导体科技(张家港)有限公司申请人地址
江苏省苏州市张家港保税区华达路36号科技创业园A幢313室威士达半导体科技(张家港)有限公司 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人威士达半导体科技(张家港)有限公司当前权利人威士达半导体科技(张家港)有限公司
发明人陈田安;崔庆珑
代理机构常州市维益专利事务所(普通合伙)代理人陆华君
摘要
本申请公开了一种保护膜、用于晶圆划片膜的基材薄膜及其制造方法,该制造方法包括:(1)、物料混合,该物料按照重量比包括5%~30%的低密度聚乙烯(LDPE)、10%~45%的线形低密度聚乙烯(LLDPE)、20%~50%的茂金属聚烯烃(MLDPE)、5%~35%的醋酸乙烯酯共聚物(EVA)、0.1%~5%的助剂;(2)、将所述物料进行吹塑法或者流延法制膜,同时采用颗粒度为0.1um到10um的压纹辊进行单面压纹。本发明所获得的基材薄膜相比一般的塑料薄膜做出的晶圆划片膜产品,这种薄膜做出的晶圆划片UV膜产品其优点是:1.需要的UV光能量更小;2.产品不会“粘棍”,3.产品不容易破膜和残胶。

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