通过离子注入预处理技术在镁合金表面制备LDHs膜层的方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202110253783.4
IPC分类号：C23C14/16;C23C14/48;C23C22/60;C23C28/00
申请日期：
2021-03-09
申请人：
北京石油化工学院

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著录项信息

专利名称	通过离子注入预处理技术在镁合金表面制备LDHs膜层的方法
申请号	CN202110253783.4	申请日期	2021-03-09
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2021-06-29	公开/公告号	CN113046697A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/16 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/06 以镀层材料为特征的（C23C 14/04优先）〔4〕 C23C14/14 金属材料、硼或硅〔4〕 C23C14/16 在金属基体或在硼或硅基体上〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;1;6;;;C;2;3;C;1;4;/;4;8;;;C;2;3;C;2;2;/;6;0;;;C;2;3;C;2;8;/;0;0查看分类表>
申请人	北京石油化工学院	申请人地址	北京市大兴区清源北路19号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	北京石油化工学院	当前权利人	北京石油化工学院
发明人	陈飞;窦铮;张优;曾佳;李龙雪
代理机构	北京细软智谷知识产权代理有限责任公司	代理人	尚文文

摘要

本发明涉及一种通过离子注入预处理技术在镁合金表面制备LDHs膜层的方法，通过先对镁合金表面进行离子注入预处理制得预处理后的镁合金，之后将镁合金进行退火处理后，浸入配置的LDHs生长溶液中进行原位生长反应，最终在镁合金表面制备得到LDHs膜层；镁合金通过离子注入预处理后，能够大大降低LDHs膜层生长反应条件，有效简化工艺。形成的离子注入改性层和LDHs层相互结合，可使处理后的镁合金耐蚀性得到显著提升。本发明的方法无需在LDHs生长溶液中添加成膜元素成分，能够实现在低温常压下反应。使用本发明方法原位生长的防护膜层与镁合金基体结合力强，耐腐蚀性能好。

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