加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

一种半导体表面去除氟杂质的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201910221453.X
  • IPC分类号:H01L21/324;H01L21/30
  • 申请日期:
    2019-03-22
  • 申请人:
    东莞新科技术研究开发有限公司
著录项信息
专利名称一种半导体表面去除氟杂质的方法
申请号CN201910221453.X申请日期2019-03-22
法律状态实质审查申报国家暂无
公开/公告日2020-09-29公开/公告号CN111725066A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/324IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;3;2;4;;;H;0;1;L;2;1;/;3;0查看分类表>
申请人东莞新科技术研究开发有限公司申请人地址
广东省东莞市南城区宏远工业区 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东莞新科技术研究开发有限公司当前权利人东莞新科技术研究开发有限公司
发明人邓三军
代理机构广州三环专利商标代理有限公司代理人郝传鑫
摘要
本发明提供了一种半导体表面去除氟杂质的方法,所述方法包括以下步骤(1)在真空条件下对表面附着有氟杂质的半导体于150℃‑300℃下加热处理,同时将活性炭置于半导体所在的空间中;(2)在pH不小于9的碱液中浸泡步骤(1)处理后的半导体;(3)用乙醇清洗步骤(2)处理后的半导体。本发明提供了一种半导体表面去除氟杂质的方法,本发明方法通过在真空条件下加热,使得半导体表面的氟离子能挥发,并利用活性炭吸附氟离子,防止直接排放到空气中;加热处理能够有效的去除半导体表面的氟杂质,并且进一步通过碱液浸泡,使其半导体表面的氟形成盐的沉淀,并进一步通过乙醇清洗,进一步增强了半导体表面氟杂质的去除效果。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供