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用于清洗和干燥半导体工件容器的设备和方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200680045652.0
  • IPC分类号:B65G49/07
  • 申请日期:
    2006-11-30
  • 申请人:
    赛迈有限公司
著录项信息
专利名称用于清洗和干燥半导体工件容器的设备和方法
申请号CN200680045652.0申请日期2006-11-30
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2009-12-30公开/公告号CN101616856
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B65G49/07IPC分类号B;6;5;G;4;9;/;0;7查看分类表>
申请人赛迈有限公司申请人地址
美国蒙大拿州卡利斯比 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人赛迈有限公司当前权利人赛迈有限公司
发明人杰夫·艾伦·戴维斯;兰迪·A·哈里斯
代理机构广州三环专利代理有限公司代理人戴建波
摘要
一种用于清洗和干燥半导体晶片容器的设备包括具有固持件的装载口,固持件接收污染的容器并将其运送给甲板组件。载体接收容器以便进一步处理。具有第一末端执行器的机械手移去容器门并将其放置在载体的一部分上。机械手包括与载体相接合并且提升载体和容器以便将其插入到处理腔室中的第二末端执行器。处理腔室包括具有至少一个接收体的转子。旋转的转子产生高压区域和低压区域。提供处理流体给容器和载体。在冲洗阶段之后并且当转子旋转时,容器和载体被干燥。机械手随后从处理腔室移走容器和载体并将门重新组装到容器上。

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