一种氮化硅化学机械抛光液

发明专利有效专利

申请号：
CN201611070743.1
IPC分类号：C09G1/02
申请日期：
2016-11-29
申请人：
安集微电子科技（上海）股份有限公司

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著录项信息

专利名称	一种氮化硅化学机械抛光液
申请号	CN201611070743.1	申请日期	2016-11-29
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2018-06-05	公开/公告号	CN108117840A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C09G1/02 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 C09G 虫胶清漆除外的抛光组合物；滑雪屐蜡 C09G1/00 抛光组合物（虫胶清漆入C09F 11/00；洗涤剂入C11D） C09G1/02 含有磨料或研磨剂	IPC分类号	C;0;9;G;1;/;0;2查看分类表>
申请人	安集微电子科技（上海）股份有限公司	申请人地址	上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区（南区）T6-9幢底层变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	安集微电子科技（上海）股份有限公司	当前权利人	安集微电子科技（上海）股份有限公司
发明人	周文婷
代理机构	北京大成律师事务所	代理人	李佳铭

摘要

本发明涉及一种氮化硅化学机械抛光液，包括水和研磨颗粒，同时还包括含一个或多个羧基基团的杂环类化合物、聚胺酸与烷醇胺化合物、pH调节剂和杀菌剂。本发明的抛光液可以提高氮化硅与二氧化硅抛光速度选择比，以及氮化硅与多晶硅抛光速度选择比，同时能够具有显著提高的氮化硅抛光速度以及减小的二氧化硅和多晶硅抛光速度，就有良好的市场应用前景。

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