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一种复合沟道的有机场效应管

实用新型专利无效专利
  • 申请号:
    CN201420758725.2
  • IPC分类号:H01L51/05;H01L51/10
  • 申请日期:
    2014-12-04
  • 申请人:
    中国计量学院
著录项信息
专利名称一种复合沟道的有机场效应管
申请号CN201420758725.2申请日期2014-12-04
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L51/05IPC分类号H;0;1;L;5;1;/;0;5;;;H;0;1;L;5;1;/;1;0查看分类表>
申请人中国计量学院申请人地址
浙江省杭州市江干区学源街258号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国计量学院当前权利人中国计量学院
发明人陈真;郑亚开;唐莹;韦一;彭应全
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本实用新型公开一种复合沟道的有机场效应管,属于微电子有机器件领域。现阶段水平叠加的有机场效应管场效应特性不理想,远达不到现代集成电路工艺要求。本实用新型提出一种复合沟道的有机场效应管,通过采用光刻法和掩膜法形成水平、纵向叠加的复合有源层,由衬底、栅电极、栅介质层、有源层、源漏电极组成并依次叠加。该结构增加了N型有源层与P型有源层的界面数量,增加了激子离解产生载流子的数量,故而改善了有机场效应管的场效应特性。一种复合沟道的有机场效应管可为制备场效应特性良好的有机场效应管提供一种全新思路,对有机场效应管商业化应用有着重要影响。

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