一种振膜及其制备方法和应用

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专利名称	一种振膜及其制备方法和应用
申请号	CN202110590497.7	申请日期	2021-05-28
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-08-13	公开/公告号	CN113259816A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H04R7/02 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H04 电通信技术 H04R 扬声器、传声器、唱机拾音器或其他声—机电传感器；助听器；扩音系统（产生的声音和频率与电流频率无关的入G10K）〔6〕 H04R7/00 机电传感器的振膜；纸盆 H04R7/02 以结构为特征的	IPC分类号	H;0;4;R;7;/;0;2;;;H;0;4;R;3;1;/;0;0查看分类表>
申请人	国光电器股份有限公司	申请人地址	广东省广州市花都区新雅街镜湖大道8号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	国光电器股份有限公司	当前权利人	国光电器股份有限公司
发明人	刘雪键;谢守华;黄汉雄;王世伟
代理机构	北京品源专利代理有限公司	代理人	巩克栋

摘要

本发明涉及一种振膜及其制备方法和应用，所述振膜包括基层以及设置于所述基层两侧的金属氧化物陶瓷层；所述振膜的厚度为45‑55μm；所述两侧的金属氧化物陶瓷层的厚度均为5‑10μm。本发明所述振膜没有设置胶层，无需额外的防腐蚀表面处理，减少了振膜的工艺流程并增加了产品良率，更耐环境腐蚀且阻尼性能更好。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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