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*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

针对CAD至硅背侧图像对准的可见对准标记/界标

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201880067255.6
  • IPC分类号:H01L27/02;G01R31/311;H01L21/66;H01L23/544;H01L27/118
  • 申请日期:
    2018-08-28
  • 申请人:
    高通股份有限公司
著录项信息
专利名称针对CAD至硅背侧图像对准的可见对准标记/界标
申请号CN201880067255.6申请日期2018-08-28
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2020-06-05公开/公告号CN111247635A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/02IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;0;2;;;G;0;1;R;3;1;/;3;1;1;;;H;0;1;L;2;1;/;6;6;;;H;0;1;L;2;3;/;5;4;4;;;H;0;1;L;2;7;/;1;1;8查看分类表>
申请人高通股份有限公司申请人地址
美国加利福尼亚州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人高通股份有限公司当前权利人高通股份有限公司
发明人M·D·阿尔斯顿;H·布那利姆;L·Z·V·恩德里纳尔;M·S·A·玛拉布里;L·兰加纳坦;R·F·A·G·萨勒姆
代理机构北京市金杜律师事务所代理人暂无
摘要
金属氧化物半导体(MOS)集成电路(IC)具有多个不同单元尺寸的基准标准单元。不同单元尺寸不均等地被利用。多个基准标准单元被放置为具有从统一的整体放置图案的随机偏移。基准标准单元中的每一个基准标准单元具有至少四个功率轨和各种有源区域集。功率轨在第一方向上延伸。有源区域被提供以与功率轨相邻,但与触点和互连件断开连接,并且因此不会从功率轨汲取功率。相反,有源区域是不相交的且共线的,由此创建在非有源区域的间隔之中的有源区域岛。这些非有源区域更容易允许电磁辐射穿过,由此允许对于即使具有7纳米特征尺寸的CAD至硅背侧图像对准,MOS基准标准单元是可见的。

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供