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闪存的制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN01129355.1
  • IPC分类号:--
  • 申请日期:
    2001-06-13
  • 申请人:
    旺宏电子股份有限公司
著录项信息
专利名称闪存的制造方法
申请号CN01129355.1申请日期2001-06-13
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2001-12-12公开/公告号CN1326223
优先权暂无优先权号暂无
主分类号暂无IPC分类号暂无查看分类表>
申请人旺宏电子股份有限公司申请人地址
中国台湾新竹科学工业园区力行路16号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人旺宏电子股份有限公司当前权利人旺宏电子股份有限公司
发明人范左鸿;蔡文哲;卢道政
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司代理人王学强
摘要
一种闪存的制造方法,对已形成有堆栈栅的基底,以堆栈栅为掩模进行一浅接面掺杂步骤,在堆栈栅两侧的基底中形成浅接面掺杂区。接着,在基底上形成掩模层,其中掩模层覆盖在堆栈栅表面和侧壁,且裸露部分的浅接面掺杂区。然后,以掩模层为掩模,对基底进行深接面掺杂步骤,在掩模层两侧的基底中形成深接面掺杂区。最后,去除掩模层后进行一热加工,形成具有浅漏极接面以及深漏极接面的源/漏极区。

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