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圆柱内壁微结构气膜屏蔽圆周阵列管电极射流电解加工方法与装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201711062940.3
  • IPC分类号:B23H3/02;B23H3/10;B23H9/00;B23H9/16
  • 申请日期:
    2017-11-02
  • 申请人:
    浙江工业大学
著录项信息
专利名称圆柱内壁微结构气膜屏蔽圆周阵列管电极射流电解加工方法与装置
申请号CN201711062940.3申请日期2017-11-02
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2018-03-06公开/公告号CN107755835A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B23H3/02IPC分类号B;2;3;H;3;/;0;2;;;B;2;3;H;3;/;1;0;;;B;2;3;H;9;/;0;0;;;B;2;3;H;9;/;1;6查看分类表>
申请人浙江工业大学申请人地址
浙江省杭州市下城区朝晖六区潮王路18号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人浙江工业大学当前权利人浙江工业大学
发明人王明环;龚斌;童文俊;许雪峰
代理机构杭州斯可睿专利事务所有限公司代理人王利强;李百玲
摘要
一种圆柱内壁微结构气膜屏蔽圆周阵列管电极射流电解加工方法,包括以下步骤:通过调节进刀和退刀控制装置的进刀和退刀,进而使得工具电极做径向往复移动,保持圆柱工件内壁和工具电极之间有一定的加工间隙,电解液经工具电极喷射到圆柱工件上,参与工具电极与圆柱工件内壁之间的电化学反应,再通过环绕每个工具电极的电极出液口的气体流出通孔将高压气体喷射到圆柱工件上,对电解液的喷射范围进行控制,实现群孔的加工。本发明提供了一种圆柱内壁微结构气膜屏蔽圆周阵列管电极射流电解加工方法与装置,在一定程度上可以提高射流电解加工圆柱内壁小孔的稳定性、精度和效率。

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