碳质膜的制造方法、及石墨膜的制造方法、以及辊状高分子膜及辊状碳质膜

发明专利有效专利

申请号：
CN201280008559.8
IPC分类号：C01B31/04;C01B31/02
申请日期：
2012-03-26
申请人：
株式会社钟化

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专利名称	碳质膜的制造方法、及石墨膜的制造方法、以及辊状高分子膜及辊状碳质膜
申请号	CN201280008559.8	申请日期	2012-03-26
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2013-10-30	公开/公告号	CN103380082A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C01B31/04 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C01 无机化学 C01B 非金属元素；其化合物（制备元素或二氧化碳以外无机化合物的发酵或用酶工艺入C12P 3/00；用电解法或电泳法生产非金属元素或无机化合物入C25B） C01B31/04 （转入C01B 32/182-C01B 32/23）	IPC分类号	C;0;1;B;3;1;/;0;4;;;C;0;1;B;3;1;/;0;2查看分类表>
申请人	株式会社钟化	申请人地址	日本大阪府变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	株式会社钟化	当前权利人	株式会社钟化
发明人	三代真琴;太田雄介;稻田敬;西川泰司
代理机构	永新专利商标代理有限公司	代理人	周欣;陈建全

摘要

本发明的课题在于，在利用高分子热分解法的长尺寸（辊状）的碳质膜的制造中，抑制碳质膜的熔合。一种碳质膜的制造方法，其特征在于，其是经由将高分子膜在卷成辊状的状态下进行热处理的工序来制造碳质膜的方法，在低于该高分子膜的热分解开始温度的温度下制成下述的辊状高分子膜后进行热处理，所述辊状高分子膜具有高分子膜间的间隙，所述间隙满足下述关系：关于辊状高分子膜全体而算出的、将相邻的该高分子膜间的间隙的厚度即Ts除以该高分子膜的厚度即Tf而得到的值即Ts/Tf为0.16以上且1.50以下。另外，作为间隙的形成方法，在将高分子膜卷成辊状时，将衬纸同时卷取，然后抽出所述衬纸，通过使用上述方法，对抑制碳质膜的熔合具有效果。

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