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感光性树脂组合物和半导体元件的制造方法

发明专利无效专利

申请号：
CN201280064662.4
IPC分类号：G03F7/075;G03F7/004;G03F7/023
申请日期：
2012-12-21
申请人：
东丽株式会社

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	感光性树脂组合物和半导体元件的制造方法
申请号	CN201280064662.4	申请日期	2012-12-21
法律状态	驳回	申报国家	中国
公开/公告日	2014-08-27	公开/公告号	CN104011596A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/075 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/004 感光材料（G03F 7/12，G03F 7/14优先）〔5〕 G03F7/075 含硅的化合物〔5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;0;7;5;;;G;0;3;F;7;/;0;0;4;;;G;0;3;F;7;/;0;2;3查看分类表>
申请人	东丽株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	东丽株式会社	当前权利人	东丽株式会社
发明人	藤原健典;谷垣勇刚;诹访充史
代理机构	北京市中咨律师事务所	代理人	李照明;段承恩

摘要

本发明提供了一种感光性树脂组合物，是显示正型或负型感光性、能够作为离子注入工序中的掩模使用的感光性树脂组合物，作为树脂含有(A)聚硅氧烷。本发明的感光性树脂组合物具有高耐热性、能够控制图案形状，并且具有优异的离子注入掩模性能，适合用于低成本的高温离子注入工艺。

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