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基于光电特性先验的显微成像的杂散光去除方法及装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201711373195.4
  • IPC分类号:G01N21/01;G06T5/00;H04N5/21
  • 申请日期:
    2017-12-19
  • 申请人:
    清华大学
著录项信息
专利名称基于光电特性先验的显微成像的杂散光去除方法及装置
申请号CN201711373195.4申请日期2017-12-19
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2018-06-05公开/公告号CN108120680A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01N21/01IPC分类号G;0;1;N;2;1;/;0;1;;;G;0;6;T;5;/;0;0;;;H;0;4;N;5;/;2;1查看分类表>
申请人清华大学申请人地址
北京市海淀区清华园 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人清华大学当前权利人清华大学
发明人范静涛;陈熙;戴琼海
代理机构北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)代理人张润
摘要
本发明公开了一种基于光电特性先验的显微成像的杂散光去除方法及装置,其中方法包括:布置暗室并在相机支持的曝光时间参数区间上以对数间断取点,拍摄第一照片;在暗室中仅打开仪器光源,在物镜下方使用光陷阱吸收光,以相机曝光时间和光源亮度组合,在光源亮度上均匀取点,且在相机曝光时间上述取点相同,拍摄第二照片;将第二照片减去第一照片以消除相机本身像感器对实验结果的干扰,进而获取杂散光在相机曝光时间和光源亮度上的变化规律;在对特定的一张图分析杂散光强度在空间上的优化分布模型时,根据变化规律得到采集照片中每个像素的杂散光数值,以去除杂散光的影响。该方法可以减少算法的时间复杂度,有效提高实验效率和图片清晰度。

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