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半导体装置及制造半导体装置的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010433142.2
  • IPC分类号:H01L25/065;H01L21/98;H01L23/48;H01L21/50
  • 申请日期:
    2020-05-21
  • 申请人:
    安靠科技新加坡控股私人有限公司
著录项信息
专利名称半导体装置及制造半导体装置的方法
申请号CN202010433142.2申请日期2020-05-21
法律状态公开申报国家中国
公开/公告日2020-11-24公开/公告号CN111987078A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L25/065IPC分类号H;0;1;L;2;5;/;0;6;5;;;H;0;1;L;2;1;/;9;8;;;H;0;1;L;2;3;/;4;8;;;H;0;1;L;2;1;/;5;0查看分类表>
申请人安靠科技新加坡控股私人有限公司申请人地址
新加坡市 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人安靠科技新加坡控股私人有限公司当前权利人安靠科技新加坡控股私人有限公司
发明人郑季洋;李在河;裴炳日
代理机构北京寰华知识产权代理有限公司代理人暂无
摘要
半导体装置及制造半导体装置的方法。一种电子装置结构包含衬底,衬底有邻近于表面的导电结构。导电结构包含多个导电衬垫。第一和第二电子装置安置成邻近于顶表面。第一电子装置插置于第一与第二导电衬垫之间,且第二电子装置插置于第二与第三导电衬垫之间。包含第一键合结构的连续导线结构连接到第一导电衬垫,第二键合结构连接到第二导电衬垫,第三键合结构连接到第三导电衬垫,第一导线部分互连于第一与第二键合结构之间且安置成覆于第一电子装置上方,且第二导线部分互连于第二与第三键合结构之间且安置成位于第二电子装置上方。

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