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光栅衍射效率光谱测量装置和测量方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201611039171.0
  • IPC分类号:G01M11/02;G01J3/30
  • 申请日期:
    2016-11-21
  • 申请人:
    中国科学院上海光学精密机械研究所
著录项信息
专利名称光栅衍射效率光谱测量装置和测量方法
申请号CN201611039171.0申请日期2016-11-21
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2017-04-26公开/公告号CN106596058A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01M11/02IPC分类号G;0;1;M;1;1;/;0;2;;;G;0;1;J;3;/;3;0查看分类表>
申请人中国科学院上海光学精密机械研究所申请人地址
上海市嘉定区上海市800-211邮政信箱 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院上海光学精密机械研究所当前权利人中国科学院上海光学精密机械研究所
发明人刘世杰;王圣浩;王微微;倪开灶;徐天柱;鲁棋;潘本威
代理机构上海新天专利代理有限公司代理人张泽纯
摘要
一种用于平面光栅的光栅衍射效率光谱测量装置和测量方法,测量装置主要包括激光光源、单色器、光阑、偏振片、分束镜、待测光栅、光电探测器、正弦机械结构和电子学控制等部分。本发明的优点是:(1)显著提高了光栅衍射效率光谱的测量速度,可以实现光栅衍射效率光谱的快速测量,如应用于观测光栅衍射效率光谱特性在温度、湿度以及激光辐照损伤等环境因素下的动态变化过程;(2)在测量过程中,仪器的机械构件始终保持匀速运动状态,测试系统因而具有较高的机械稳定性;(3)测量仪器具有较高的工作效率。

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