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图案化垂直磁记录介质及使用该介质的磁记录系统

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200810090011.8
  • IPC分类号:G11B5/74;G11B5/09
  • 申请日期:
    2008-03-27
  • 申请人:
    日立环球储存科技荷兰有限公司
著录项信息
专利名称图案化垂直磁记录介质及使用该介质的磁记录系统
申请号CN200810090011.8申请日期2008-03-27
法律状态驳回申报国家中国
公开/公告日2008-11-26公开/公告号CN101312050
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G11B5/74IPC分类号G;1;1;B;5;/;7;4;;;G;1;1;B;5;/;0;9查看分类表>
申请人日立环球储存科技荷兰有限公司申请人地址
荷兰阿姆斯特丹 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人日立环球储存科技荷兰有限公司当前权利人日立环球储存科技荷兰有限公司
发明人安德烈亚斯·K·伯杰;埃里克·E·富勒顿;奥拉夫·赫尔维格;拜伦·H·伦格斯菲尔德三世;欧内斯托·E·马里内罗
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人张波
摘要
本发明公开了图案化垂直磁记录介质及使用该介质的磁记录系统。该介质具有离散的磁岛,每个岛具有包括两个交换耦合的铁磁层的记录层(RL)结构。RL结构可为“交换弹簧”RL结构,其中有时称为交换弹簧层(ESL)的上部铁磁层(MAG2)铁磁耦合到有时称为介质层(ML)的下部铁磁层(MAG1)。RL结构也可包括MAG1和MAG2间的耦合层(CL),其允许铁磁耦合。MAG1和MAG2间的层间交换耦合可通过调节CL的材料和厚度而部分地优化。RL结构也可包括与MAG1和MAG2至少之一接触的铁磁横向耦合层(LCL)以调整其所接触的铁磁层(MAG2或MAG1)中的晶粒间交换耦合。LCL中的铁磁合金具有比其所接触的铁磁合金(MAG2或MAG1)大得多的晶粒间交换耦合。

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