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具有改善的接触电阻的半导体结构

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200880111653.X
  • IPC分类号:H01L21/285;H01L21/308;H01L21/768
  • 申请日期:
    2008-09-04
  • 申请人:
    国际商业机器公司
著录项信息
专利名称具有改善的接触电阻的半导体结构
申请号CN200880111653.X申请日期2008-09-04
法律状态权利终止申报国家暂无
公开/公告日2010-09-29公开/公告号CN101849282A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/285IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;2;8;5;;;H;0;1;L;2;1;/;3;0;8;;;H;0;1;L;2;1;/;7;6;8查看分类表>
申请人国际商业机器公司申请人地址
开曼群岛大开曼岛 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人格芯公司当前权利人格芯公司
发明人卡尔·J·拉登斯;布鲁斯·多丽丝;杰伊·W·斯特兰;安东尼·斯坦珀
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人邱军
摘要
自组聚合物技术被用以在存在于半导体结构的导电接触区域的材料中形成至少一有序的纳米尺寸图案。具有有序的,纳米尺寸图案的材料为互连结构的导电材料,或场效晶体管的半导体源极和漏极扩散区。接触区域中有序的纳米尺寸图案材料的存在增加了后续形成接触的总体面积(即界面面积),继而减少该结构的接触电阻。接触电阻的减少继而改善了通过结构的电流。除上述外,由于结面积保持不变,因此本发明方法和结构不影响该结构的结电容。

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