一种含兰炭的硅冶炼用还原剂及其制备方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202211156507.7
IPC分类号：C01B33/025;C01B32/05
申请日期：
2022-09-22
申请人：
昆明理工大学

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专利名称	一种含兰炭的硅冶炼用还原剂及其制备方法
申请号	CN202211156507.7	申请日期	2022-09-22
法律状态	公开	申报国家	中国
公开/公告日	2022-11-15	公开/公告号	CN115340094A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C01B33/025 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C01 无机化学 C01B 非金属元素；其化合物（制备元素或二氧化碳以外无机化合物的发酵或用酶工艺入C12P 3/00；用电解法或电泳法生产非金属元素或无机化合物入C25B） C01B33/00 硅；其化合物（C01B 21/00，C01B 23/00优先；过硅酸盐入 C01B 15/14；碳化物入C01B32/956）〔1，3，2006.01〕 C01B33/02 硅（形成单晶或有一定结构的均匀多晶材料入C30B）〔5〕 C01B33/021 制备（由气相的化学涂层入C23C 16/00）〔5〕 C01B33/023 用二氧化硅或含二氧化硅的物料的还原方法〔5〕 C01B33/025 使用碳或固体碳质物料，即碳热还原工艺〔5〕	IPC分类号	C;0;1;B;3;3;/;0;2;5;;;C;0;1;B;3;2;/;0;5查看分类表>
申请人	昆明理工大学	申请人地址	云南省昆明市一二一大街文昌路68号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	昆明理工大学	当前权利人	昆明理工大学
发明人	陈正杰;王晓月;马文会;李绍元;伍继君;魏奎先
代理机构	长沙市融智专利事务所（普通合伙）	代理人	蒋太炜

摘要

本发明属于工业硅冶炼领域，尤其涉及一种含兰炭的硅冶炼用还原剂及其制备方法。所述还原剂其所用原料由下述组分组成10wt％兰炭、35wt％木炭、15～20wt％粒度焦、18～39wt％高粘煤、0～7wt％中粘煤、0～7wt％无粘煤、0～7wt％低灰煤、1wt％粘结剂、0～2wt％木块。其制备方法为按设计组分配取各原料混合均匀后在5～10MPa的压力条件下压制成球团状复合碳质还原剂；将得到的球团状复合碳质还原剂球团置于温度为400～600℃下隔绝空气低温焙烧10～30h；得到满足于工业硅生产用的还原剂。本发明通过使用适当比例和用量兰炭和木炭替代部分石油焦、烟煤，尤其在使用兰炭10％、木炭35％时，在工业硅冶炼生产量稳定的情况下，产量和产品质量得到提升，还原剂成本下降2～6％。

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