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适用于卷对卷COF基板的清洗装置及其清洗方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202011204692.3
  • IPC分类号:B08B3/02;B08B13/00;F26B21/00;H05F3/06
  • 申请日期:
    2020-11-02
  • 申请人:
    江苏科沛达半导体科技有限公司
著录项信息
专利名称适用于卷对卷COF基板的清洗装置及其清洗方法
申请号CN202011204692.3申请日期2020-11-02
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-01-26公开/公告号CN112264371A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B08B3/02IPC分类号B;0;8;B;3;/;0;2;;;B;0;8;B;1;3;/;0;0;;;F;2;6;B;2;1;/;0;0;;;H;0;5;F;3;/;0;6查看分类表>
申请人江苏科沛达半导体科技有限公司申请人地址
江苏省徐州市邳州市经济开发区非晶产业园1号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人江苏科沛达半导体科技有限公司当前权利人江苏科沛达半导体科技有限公司
发明人李继忠;李述周
代理机构北京科家知识产权代理事务所(普通合伙)代理人宫建华
摘要
本发明公开了一种适用于卷对卷COF基板的清洗装置及其清洗方法,该清洗装置包括箱体,箱体的内腔由左往右依次分为上料区、清洗区、热风干燥区和下料区,清洗区的下部设有电导率检测区,上料区中转动支撑有若干上料卷盘,清洗区的上部左侧区域设有内置喷淋头的预喷淋区,中间区域设有内置水刀的水刀喷洗区,右侧区域设有内置二流体喷嘴的二流体喷洗区,以及内置风刀的除水区,热风干燥区中设有热风机,下料区中转动支撑有若干下料卷盘,上料区和下料区均固定有静电消除器。本发明利用二氧化碳来增加水的带电度,进而增加清洗能力,再利用高压水刀及二流体喷嘴产生高压流体进行一次与二次物理冲洗,提高清洗效果。

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