加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

一种具有高导通能力的氮化镓晶体管及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110379231.8
  • IPC分类号:H01L29/778;H01L29/45;H01L21/335
  • 申请日期:
    2021-04-08
  • 申请人:
    中山大学
著录项信息
专利名称一种具有高导通能力的氮化镓晶体管及其制备方法
申请号CN202110379231.8申请日期2021-04-08
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-08-06公开/公告号CN113224155A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/778
?
IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;7;7;8;;;H;0;1;L;2;9;/;4;5;;;H;0;1;L;2;1;/;3;3;5查看分类表>
申请人中山大学申请人地址
广东省广州市海珠区新港西路135号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中山大学当前权利人中山大学
发明人刘扬;冯辰亮
代理机构广州粤高专利商标代理有限公司代理人王晓玲
摘要
本发明涉及一种具有高导通能力的氮化镓晶体管及其制备方法。由下至上依次包括衬底,应力缓冲层,GaN沟道外延层,AlGaN势垒层,在栅区刻蚀下方AlGaN势垒层形成栅区凹槽、在源区和漏区刻蚀下方AlGaN势垒层形成阵列孔,在凹槽和阵列孔中选区生长AlGaN二次外延层,二次外延形成的栅区凹槽上生长栅介质层,源区和漏区的阵列孔上形成源极和漏极,凹槽沟道处的栅介质层上覆盖栅极。本发明器件和制备工艺简单可靠,通过在源/漏区和栅区进行干法刻蚀和选区二次外延生长技术,有效减小了器件在源/漏区的欧姆接触电阻和栅区导通电阻,实现栅区的高迁移率和高导通能力,优化了源漏区的无金工艺欧姆接触,显著改善了GaN常关型MISFET器件开态下的导通性能。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供