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一种新型底发射垂直腔面发射激光器

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201922210410.X
  • IPC分类号:H01S5/183;H01S5/20
  • 申请日期:
    2019-12-11
  • 申请人:
    中证博芯(重庆)半导体有限公司
著录项信息
专利名称一种新型底发射垂直腔面发射激光器
申请号CN201922210410.X申请日期2019-12-11
法律状态暂无申报国家暂无
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01S5/183IPC分类号H;0;1;S;5;/;1;8;3;;;H;0;1;S;5;/;2;0查看分类表>
申请人中证博芯(重庆)半导体有限公司申请人地址
重庆市合川区信息安全产业城草街街道嘉合大道500号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中证博芯(重庆)半导体有限公司,中合博芯(重庆)半导体有限公司当前权利人中证博芯(重庆)半导体有限公司,中合博芯(重庆)半导体有限公司
发明人李迈克
代理机构重庆信航知识产权代理有限公司代理人穆祥维
摘要
本实用新型提供一种新型底发射垂直腔面发射激光器,包括顺序形成在衬底基板表面的下DBR、有源区域、氧化限制层、上DBR和上金属电极层,衬底基板底面形成有向表面延伸具有内外深度差的出光孔,出光孔内层底部与下DBR间距为d且0

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