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一种利用电磁场促进还原染料染色装置

实用新型专利无效专利
  • 申请号:
    CN201320660933.4
  • IPC分类号:D06B5/22
  • 申请日期:
    2013-10-24
  • 申请人:
    东华大学
著录项信息
专利名称一种利用电磁场促进还原染料染色装置
申请号CN201320660933.4申请日期2013-10-24
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号D06B5/22IPC分类号D;0;6;B;5;/;2;2查看分类表>
申请人东华大学申请人地址
上海市松江区松江新城人民北路2999号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东华大学当前权利人东华大学
发明人王炜;彭攀;钱冲;高翠翠;李维亚;刘婷婷;刘艳
代理机构上海泰能知识产权代理事务所代理人宋缨;孙健
摘要
本实用新型涉及一种利用电磁场促进还原染料染色装置,包括染槽,所述染槽内设有用于导布的导布辊,所述染槽内的中间位置设有电磁铁,所述电磁铁用于产生变化的磁场;所述导布辊的方向与磁场的磁感线方向平行,所述导布辊的转动带动织物在垂直于磁感线方向运动;所述染槽外设有用于控制导布辊速度、电磁铁输入电压和染槽内温度的控制器。本实用新型将电磁铁引入还原染料隐色体上染的过程中,通过外加电磁场,使还原染料隐色体运动加剧,增加染料隐色体扩散系数,降低染料上染的活化能,实现了还原染料隐色体在低温短时间上染纤维的目的,解决了还原染料隐色体上染需要高温并且加盐促染的问题。

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