等离子体处理装置及其所使用的电极

发明专利有效专利

申请号：
CN200710088335.3
IPC分类号：H01L21/00;H01L21/3065
申请日期：
2007-03-15
申请人：
东京毅力科创株式会社

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著录项信息

专利名称	等离子体处理装置及其所使用的电极
申请号	CN200710088335.3	申请日期	2007-03-15
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2007-09-19	公开/公告号	CN101038859
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L21/00 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L21/00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备〔2，8〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;1;/;0;0;;;H;0;1;L;2;1;/;3;0;6;5查看分类表>
申请人	东京毅力科创株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	东京毅力科创株式会社	当前权利人	东京毅力科创株式会社
发明人	舆石公;铃木隆司
代理机构	北京尚诚知识产权代理有限公司	代理人	龙淳

摘要

本发明提供一种等离子体处理装置，能够遍及从中心部到周缘部的宽广范围进一步减小电极表面的电场分布不均匀，能够生成极高均匀性的等离子体，其中，上部电极(300)包括：电极板(310)，与构成下部电极的基座(116)相对；电极支撑体(320)，与电极板的下部电极侧的相反侧的面接合，以及支撑电极板，在电极支撑体的与电极板的接合面上，设置中心部和周缘部的高度不同的形状的空洞部(330)。

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