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一种光蚀刻显影液的制备方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201310134754.1
  • IPC分类号:G03F7/32
  • 申请日期:
    2013-04-18
  • 申请人:
    合肥格林达电子材料有限公司
著录项信息
专利名称一种光蚀刻显影液的制备方法
申请号CN201310134754.1申请日期2013-04-18
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2013-07-10公开/公告号CN103197515A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/32IPC分类号G;0;3;F;7;/;3;2查看分类表>
申请人合肥格林达电子材料有限公司申请人地址
安徽省合肥市瑶海区张洼路新站区工业园 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人合肥格林达电子材料有限公司当前权利人合肥格林达电子材料有限公司
发明人徐雅玲;黄源;尹云舰
代理机构杭州求是专利事务所有限公司代理人周烽
摘要
本发明公开了一种光蚀刻显影液的制备方法,本发明通过混合一定比例的三甲胺,三乙胺,和碳酸二甲酯,合成四甲基铵和三乙基单甲基铵碳酸单甲酯混合物中间体。然后经过水解,纯化,电解工序得到四甲基氢氧化铵和三乙基单甲基氢氧化铵混合铵显影液溶液。同时也可通过加入碳酸二乙酯得到更多种类烷基结构的烷基氢氧化铵水溶液。所得到的不同链长结构的烷基氢氧化铵混合铵显影液具有生产价格低,工艺简单,金属含量低,适合细精度窄线宽要求的短波长光源工艺的显影需求。

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