一种B-C-N光学薄膜的制备方法

发明专利null

申请号：
CN201110307332.0
IPC分类号：C23C14/35;C23C14/06;C23C14/58
申请日期：
2011-10-11
申请人：
宁波市瑞通新材料科技有限公司

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专利名称	一种B-C-N光学薄膜的制备方法
申请号	CN201110307332.0	申请日期	2011-10-11
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2012-04-11	公开/公告号	CN102409305A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/35 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/34 溅射〔4〕 C23C14/35 利用磁场的，例如磁控溅射〔5〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;3;5;;;C;2;3;C;1;4;/;0;6;;;C;2;3;C;1;4;/;5;8查看分类表>
申请人	宁波市瑞通新材料科技有限公司	申请人地址	江苏省南通市通州区石港镇工业园区西区6号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	南通通州意达港口机械有限公司	当前权利人	南通通州意达港口机械有限公司
发明人	戴圣英
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

一种B-C-N光学薄膜的射频(13.56MHz)磁控溅射制备方法，其是在玻璃基体表面形成了与基体良好结合的B-C-N光学薄膜；同时，选用了合适的石墨/硼复合靶以及相应的溅射工艺参数，获得了接近于BC2N化学计量比的高性能薄膜；同时经过热处理能尽可能消除薄膜内应力；薄膜中B-C-N的厚度约为135nm，薄膜表面的元素的原子百分含量为22.7B-51.5C-25.8N，表面的硬度约为14GPa，薄膜的可见光区平均透光率约为87％。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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