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甲硅烷基胺化合物、含其的用于沉积含硅薄膜的组合物及使用组合物制造含硅薄膜的方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201880020051.7
IPC分类号：C07F7/10
申请日期：
2018-03-28
申请人：
DNF有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	甲硅烷基胺化合物、含其的用于沉积含硅薄膜的组合物及使用组合物制造含硅薄膜的方法
申请号	CN201880020051.7	申请日期	2018-03-28
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2019-11-15	公开/公告号	CN110461953A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C07F7/10 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C07 有机化学〔2〕 C07F 含除碳、氢、卤素、氧、氮、硫、硒或碲以外的其他元素的无环，碳环或杂环化合物（含金属的卟啉入C07D 487/22；高分子化合物入C08） C07F7/00 含周期表第4或14族元素的化合物 C07F7/02 硅化合物 C07F7/08 具有1个或更多的C-Si键的化合物 C07F7/10 含有氮的	IPC分类号	C;0;7;F;7;/;1;0查看分类表>
申请人	DNF有限公司	申请人地址	韩国大田广域市变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	DNF有限公司	当前权利人	DNF有限公司
发明人	金成基;朴廷主;朴重进;张世珍;杨炳日;李相道;李三东;李相益;金铭云
代理机构	成都超凡明远知识产权代理有限公司	代理人	金相允;刘明

摘要

提供了甲硅烷基胺化合物、含其的用于沉积含硅薄膜的组合物及使用组合物制造含硅薄膜的方法，且更具体地，提供了能够有用地用作含硅薄膜的前体的甲硅烷基胺化合物，含有该甲硅烷基胺化合物的用于沉积含硅薄膜的组合物，以及使用该组合物制造含硅薄膜的方法。

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