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电子束位置变动测定方法、电子束位置变动测定装置以及电子束记录装置

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200580011820.X
  • IPC分类号:G03F7/20;G11B9/10;H01J37/04;H01L21/027
  • 申请日期:
    2005-06-02
  • 申请人:
    日本先锋公司
著录项信息
专利名称电子束位置变动测定方法、电子束位置变动测定装置以及电子束记录装置
申请号CN200580011820.X申请日期2005-06-02
法律状态撤回申报国家暂无
公开/公告日2007-04-04公开/公告号CN1942829
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;1;1;B;9;/;1;0;;;H;0;1;J;3;7;/;0;4;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7查看分类表>
申请人日本先锋公司申请人地址
日本东京 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人日本先锋公司当前权利人日本先锋公司
发明人小岛良明
代理机构北京三友知识产权代理有限公司代理人黄纶伟
摘要
在电子束记录装置的记录之前进行的射束位置变动的测定时,能够进行稳定且准确的变动量的测定。在记录之前测定射束点(Ep)的位置变动的测定装置(10),具备:刀口(11),其配置在射束点(Ep)的照射位置;检测单元(法拉第杯(12)等),其检测通过刀口(11)照射的电子束(E);滤波器单元(高截止滤波器(14)等),其从该检测单元的输出中除去测定对象的变动频率成分;以及控制单元(15),其根据该滤波器单元的输出,控制电子束(E)的基准位置,使得射束点(Ep)的中心位于刀口(11)的末端位置,测定装置(10)根据射束点(Ep)的中心从刀口(11)的末端偏离时的检测单元的输出变化,测定射束点(Ep)的位置变动。

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