径向圆柱磁体双层烘烤钵

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专利名称	径向圆柱磁体双层烘烤钵
申请号	CN201220043142.2	申请日期	2012-02-10
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	F27D5/00 ? IPC结构图谱： F 机械工程；照明；加热；武器；爆破 F2 照明；加热 F27 炉；窑；烘烤炉；蒸馏炉〔4〕 F27D 一种以上的炉通用的炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉的零部件或附件（燃烧设备入F23；电加热入H05B） F27D5/00 炉内装料的支架、屏板或类似装置（行进式或可移式支架入F27D 3/12）	IPC分类号	F;2;7;D;5;/;0;0查看分类表>
申请人	右任磁电（徐州）有限公司	申请人地址	江苏省徐州市铜山区铜山经济开发区珠江路南侧变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	右任磁电（徐州）有限公司	当前权利人	右任磁电（徐州）有限公司
发明人	杜长思
代理机构	徐州支点知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	刘新合

摘要

本实用新型公开了一种径向圆柱磁体双层烘烤钵，包括钵底，钵板前后设有挡板，两侧分别设有钵板，钵板开有卡槽，氧化锆板横穿卡槽，通过两侧的钵板支撑。有益效果是通过增加了一层氧化锆板，可以大幅度增加单个烘烤钵里烧制径向圆柱磁体的数量。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

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