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制备用于成像的集成电路裸片的方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200680036025.0
  • IPC分类号:G01R31/304;G01R31/307
  • 申请日期:
    2006-09-27
  • 申请人:
    吉普沃克斯公司
著录项信息
专利名称制备用于成像的集成电路裸片的方法
申请号CN200680036025.0申请日期2006-09-27
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2008-10-15公开/公告号CN101287994
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01R31/304IPC分类号G;0;1;R;3;1;/;3;0;4;;;G;0;1;R;3;1;/;3;0;7查看分类表>
申请人吉普沃克斯公司申请人地址
加拿大安大略省 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人吉普沃克斯公司当前权利人吉普沃克斯公司
发明人列夫·克利巴诺夫;谢丽·林恩·格里芬
代理机构隆天国际知识产权代理有限公司代理人郑小军
摘要
制备用于成像的集成电路裸片,通过从金属线上完全蚀刻掉所有金属而不除去位于所述金属线之下的阻挡层。金属导孔也可被除去,特别是如果它们与金属线用相同金属制成时,如在铜镶嵌电路中。这提供了高对比度的图像,允许电路布局提取软件容易地区分金属线和导孔。

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