一种翻片装置

实用新型专利有效专利

申请号：
CN201821700274.1
IPC分类号：H01L21/67;H01L21/677;H01L21/683
申请日期：
2018-10-19
申请人：
武汉帝尔激光科技股份有限公司

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著录项信息

专利名称	一种翻片装置
申请号	CN201821700274.1	申请日期	2018-10-19
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L21/67 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L21/00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备〔2，8〕 H01L21/67 专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置〔8〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;1;/;6;7;;;H;0;1;L;2;1;/;6;7;7;;;H;0;1;L;2;1;/;6;8;3查看分类表>
申请人	武汉帝尔激光科技股份有限公司	申请人地址	湖北省武汉市东湖新技术开发区华师园二路5号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	武汉帝尔激光科技股份有限公司	当前权利人	武汉帝尔激光科技股份有限公司
发明人	雷晶;李志刚;艾辉;徐贵阳;雷合鸿
代理机构	北京轻创知识产权代理有限公司	代理人	杨立;陈振玉

摘要

本实用新型属于硅片加工技术领域，特别涉及一种翻片装置。本实用新型的翻片装置包括两个固定侧板、两个板状的吸盘和驱动机构；两个所述固定侧板分别竖直设置，并间隔平行分布；两个所述吸盘并列设置在两个所述固定侧板之间的上部，且所述吸盘的两端分别与两个所述固定侧板转动连接；所述驱动机构与所述吸盘传动连接，并可驱动所述吸盘反向翻转。优点：结构设计简单，翻片效率高，利于高效生产。

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