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一种高透低雾光学基膜用聚酯母料的合成方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110898386.2
  • IPC分类号:C08L67/02;C08L63/10;C08L51/08;C08G63/183;C08G63/86;C08G63/87;C08J3/22;C08J5/18
  • 申请日期:
    2021-08-05
  • 申请人:
    常州浩阳新材料科技有限公司
著录项信息
专利名称一种高透低雾光学基膜用聚酯母料的合成方法
申请号CN202110898386.2申请日期2021-08-05
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-09-21公开/公告号CN113416393A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C08L67/02IPC分类号C;0;8;L;6;7;/;0;2;;;C;0;8;L;6;3;/;1;0;;;C;0;8;L;5;1;/;0;8;;;C;0;8;G;6;3;/;1;8;3;;;C;0;8;G;6;3;/;8;6;;;C;0;8;G;6;3;/;8;7;;;C;0;8;J;3;/;2;2;;;C;0;8;J;5;/;1;8查看分类表>
申请人常州浩阳新材料科技有限公司申请人地址
江苏省常州市金坛区龙湖路9号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人常州浩阳新材料科技有限公司当前权利人常州浩阳新材料科技有限公司
发明人段旻;刘勤学;姚孝平;孔云飞;马强;杨彩怡
代理机构南京勤行知识产权代理事务所(普通合伙)代理人陈烨
摘要
本发明涉及聚酯母粒技术领域,尤其是一种高透低雾光学基膜用聚酯母料的合成方法,包括以下步骤:1)将100份对苯二甲酸、130份乙二醇和0.001‑0.002份醋酸钠配制成浆料,然后转移至酯化反应釜中进行酯化反应,然后加入0.02‑0.05份乙醇锑和对甲苯磺酸的复合催化剂、10‑20份第三单体依次进行预缩聚反应和终缩聚反应,在终缩聚反应阶段加入0.001‑0.002份磷酸三甲酯,2)终缩聚结束降温过程中加入光固化单体和光引发剂,最后将终聚物卸到冷却池,切片得到聚酯母料;本发明中的聚酯母料在后续制备光学基膜的时候,可以通过辐照步骤提高光学基膜的硬度,从而可以降低抗粘连剂的添加,从而降低光学基膜的折射率,得到高透光低雾度的光学基膜。

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