一种具有硅碳氧阻挡层薄膜的低辐射玻璃及其制备方法

1.一种具有硅碳氧阻挡层薄膜的低辐射玻璃，包括玻璃基板和氧化锡掺氟膜层，其特征是在玻璃基板与氧化锡掺氟膜层之间有1～5层硅碳氧薄膜，每层硅碳氧薄膜的厚度为
5～30nm，从玻璃基板往氧化锡掺氟膜层方向逐渐变薄，折射率从1.6至1.7呈梯度变化，每层硅碳氧薄膜为纳米硅晶粒镶嵌于非晶的硅碳氧网络中的结构，非晶的硅碳氧网络由Si-O键合和Si-C键合形成。
2.根据权利要求1所述的具有硅碳氧阻挡层薄膜的低辐射玻璃，其特征为所说的纳米硅晶粒的直径为2～5nm。
3.制备权利要求1所述的具有硅碳氧阻挡层薄膜的低辐射玻璃的方法，其特征在于包括以下步骤：
1）常温常压下，将体积浓度10%的硅烷、体积浓度99.99%的乙烯、体积浓度99.99%的二氧化碳按体积比1～2:3～4:3～4混合作为硅碳氧阻挡层原料气体；
2）在浮法在线生产线的锡槽内，将步骤1）的原料气体通入数个依次排列在玻璃基板上方的镀膜反应器中输送到匀速移动的玻璃表面，镀膜反应器个数与硅碳氧薄膜的层数相等，利用化学气相沉积法镀膜，镀膜温度为650～680℃，得到多层硅碳氧阻挡层薄膜；
3）将镀有硅碳氧阻挡层薄膜的玻璃传输到退火窑内，在580℃-600℃，以H2O为催化剂，将已经气化的质量浓度99.0%的有机锡源单丁基三氯化锡和质量浓度99.0%的有机氟源三氟乙酸用氮气作载气通入镀有硅碳氧阻挡层的玻璃表面，利用化学气相沉积法在硅碳氧阻挡层薄膜上沉积氧化锡掺氟膜层，混合反应气体总量4L/min-5L/min，有机锡源单丁基三氯化锡、有机氟源三氟乙酸和氮气的质量流量比为2:1:3。
4.根据权利要求3所述的制备具有硅碳氧阻挡层薄膜的低辐射玻璃的方法，其特征在于玻璃移动速度为360～545米/小时，镀膜反应器喷气口与移动玻璃表面的距离为2～
5毫米。

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