一种多元Ti-Al-N系纳米复合多层涂层及其制备方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200910193491.5
IPC分类号：C23C14/32;C23C14/06;C23C14/02;B32B9/00
申请日期：
2009-10-30
申请人：
华南理工大学

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专利名称	一种多元Ti-Al-N系纳米复合多层涂层及其制备方法
申请号	CN200910193491.5	申请日期	2009-10-30
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2010-04-28	公开/公告号	CN101698933A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/32 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/24 真空蒸发〔4〕 C23C14/32 爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法（C23C 14/34至C23C 14/48优先）〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;3;2;;;C;2;3;C;1;4;/;0;6;;;C;2;3;C;1;4;/;0;2;;;B;3;2;B;9;/;0;0查看分类表>
申请人	华南理工大学	申请人地址	广东省广州市天河区五山路381号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	华南理工大学	当前权利人	华南理工大学
发明人	彭继华
代理机构	广州市华学知识产权代理有限公司	代理人	李卫东

摘要

本发明公开一种多元Ti-Al-N系纳米复合多层涂层及其制备方法。该纳米复合多层涂层是在工具或模具基体上以TiN作为结合层，结合层上的膜层结构为[TiN/(Ti，Al，X)N]n，其中X指Cr，Si，Zr，Y中的一种或多种组合。该方法在工件表面涂制每一层厚度小于100nm的TiN层；启动2个阴极多弧合金靶，靶电流为80-100A，调整工件偏压80-120V，持续施镀获得成分为(Ti，Al，X)N的涂层；通过多重形成[TiN/(Ti，Al，X)N]n交替结构；发明改善了Ti-Al-N系列涂层的高温稳定性和耐磨性，以及抗冲击韧性、涂层同基体的结合强度。

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