一种用于低介电材料的抛光液及其制备方法

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专利名称	一种用于低介电材料的抛光液及其制备方法
申请号	CN201410157521.8	申请日期	2014-04-21
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2014-07-16	公开/公告号	CN103923568A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C09G1/02 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 C09G 虫胶清漆除外的抛光组合物；滑雪屐蜡 C09G1/00 抛光组合物（虫胶清漆入C09F 11/00；洗涤剂入C11D） C09G1/02 含有磨料或研磨剂	IPC分类号	C;0;9;G;1;/;0;2查看分类表>
申请人	杨飏;宋奇吼	申请人地址	江苏省南京市溧水区永阳镇天生桥大道688号溧水区科创中心变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	杨飏,宋奇吼	当前权利人	杨飏,宋奇吼
发明人	杨飏;宋奇吼
代理机构	北京天平专利商标代理有限公司	代理人	王雅辉

摘要

本发明公开一种用于低介电材料的抛光液，包括如下组分：三氧化二铝溶胶磨料1～10份，加速剂0.01～1份，表面活性剂0.01～0.1份，氧化剂0.5～0.8份，缓蚀剂0.1～3份，去离子水5～20份，以重量份计。本发明制得的抛光液抛光效率高，抛光过程中不会产生腐蚀性，抛光质量好。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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