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对核技术设施的部件或系统的含氧化层表面去污的方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200810108150.9
  • IPC分类号:G21F9/28;G21F9/00
  • 申请日期:
    2006-11-15
  • 申请人:
    阿利发NP有限公司
著录项信息
专利名称对核技术设施的部件或系统的含氧化层表面去污的方法
申请号CN200810108150.9申请日期2006-11-15
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2008-10-15公开/公告号CN101286374
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G21F9/28IPC分类号G;2;1;F;9;/;2;8;;;G;2;1;F;9;/;0;0查看分类表>
申请人阿利发NP有限公司申请人地址
德国埃朗根 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人阿利发NP有限公司当前权利人阿利发NP有限公司
发明人H-O·博斯奥特;T·C·玛希尔;F·施特勒默尔
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所代理人刘明海
摘要
本发明涉及一种对核技术设施的部件或系统的含氧化层表面去污的方法,其中使用气态的氮氧化物(NOx)作为氧化剂处理氧化层。

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