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具有交错的局部互连结构的存储单元阵列

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200480030197.8
  • IPC分类号:G11C7/18;G11C16/04
  • 申请日期:
    2004-09-16
  • 申请人:
    先进微装置公司
著录项信息
专利名称具有交错的局部互连结构的存储单元阵列
申请号CN200480030197.8申请日期2004-09-16
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2006-12-27公开/公告号CN1886798
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G11C7/18IPC分类号G;1;1;C;7;/;1;8;;;G;1;1;C;1;6;/;0;4查看分类表>
申请人先进微装置公司申请人地址
美国加利福尼亚州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人赛普拉斯半导体公司当前权利人赛普拉斯半导体公司
发明人M·伦道夫;S·哈达德;T·瑟盖特;R·法斯托
代理机构北京戈程知识产权代理有限公司代理人程伟;孙向民
摘要
一种存储单元阵列(50),包括制造于半导体衬底(54)上呈二维阵列的存储单元(52),所述存储单元(52)系排列成定义行方向(67)的多行与定义列方向(69)的多列,每一列的存储单元(52)系包括多个交错的沟道区(58)与源极/漏极区(64),导电性互连(72)系设置在每一源极/漏极区(64)的顶部且仅连接至另一源极/漏极区(64),该另一源极/漏极区(64)是在毗邻该列的第二列内,所述导电性互连(64)系设置成使得每隔一个导电性互连(64)系将毗邻列连接至该列的右侧,且每隔一个导电性互连系将毗邻列连接至该列的左侧,多条源极/漏极控制线(70)则在存储单元(52)的毗邻列之间延伸且电性连接至每一连接毗邻列间的导电性互连(72)。

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