像素结构以及像素结构的制作方法

发明专利有效专利

申请号：
CN200910171231.8
IPC分类号：G02F1/1362;G02F1/1368;H01L21/82
申请日期：
2009-08-25
申请人：
友达光电股份有限公司

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著录项信息

专利名称	像素结构以及像素结构的制作方法
申请号	CN200910171231.8	申请日期	2009-08-25
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2010-01-27	公开/公告号	CN101634789
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02F1/1362 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02F 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器〔2，4〕 G02F1/00 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学〔2，4〕 G02F1/01 对强度、相位、偏振或颜色的控制（G02F 1/29、G02F 1/35优先）〔2，7〕 G02F1/13 基于液晶的，例如单位液晶显示单元〔2〕 G02F1/133 构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置（用于控制矩阵中液晶元件并且在结构上不与这些元件相连的装置或电路入G09G 3/36）〔3，7〕 G02F1/136 结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元，例如形成集成电路部分的液晶单元（G02F 1/135优先）〔5〕 G02F1/1362 有源矩阵寻址单元〔7〕	IPC分类号	G;0;2;F;1;/;1;3;6;2;;;G;0;2;F;1;/;1;3;6;8;;;H;0;1;L;2;1;/;8;2查看分类表>
申请人	友达光电股份有限公司	申请人地址	中国台湾新竹市变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	友达光电股份有限公司	当前权利人	友达光电股份有限公司
发明人	黄彦衡;陈宗凯;白佳蕙
代理机构	北京三友知识产权代理有限公司	代理人	任默闻

摘要

本发明提供一种像素结构以及像素结构的制作方法。所述方法包括下列步骤：首先，提供基板，基板上已形成有主动元件以及电容电极线。接着，在基板上形成保护层，覆盖主动元件。接着，在保护层上形成遮光图案层，以定义出单元区域，其中在电容电极线上方未覆盖有遮光图案层。然后，进行喷墨程序，以在遮光图案层所围出的单元区域内形成彩色滤光图案。再来，移除部分的彩色滤光图案，以于主动元件上方的彩色滤光图案中形成第一开口。接着，移除第一开口所暴露出的保护层，以形成接触窗开口，其暴露出主动元件的一部分。然后，在彩色滤光图案上形成像素电极，其填入接触窗开口以与主动元件电连接。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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