一种具有检测残留气体功能的蒸镀设备

实用新型专利有效专利

申请号：
CN201420109289.6
IPC分类号：C23C14/24;G01N5/00
申请日期：
2014-03-11
申请人：
京东方科技集团股份有限公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种具有检测残留气体功能的蒸镀设备
申请号	CN201420109289.6	申请日期	2014-03-11
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/24 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/24 真空蒸发〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;2;4;;;G;0;1;N;5;/;0;0查看分类表>
申请人	京东方科技集团股份有限公司	申请人地址	北京市朝阳区酒仙桥路10号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	京东方科技集团股份有限公司	当前权利人	京东方科技集团股份有限公司
发明人	王路
代理机构	北京中博世达专利商标代理有限公司	代理人	申健

摘要

本实用新型实施例提供了一种具有检测残留气体功能的蒸镀设备，涉及蒸镀工艺技术领域，可以实时检测腔体内部残留气体的相对含量，及时判断腔体内部是否需要清洗，提高蒸镀设备的使用效率。所述蒸镀设备，包括腔体，位于所述腔体内部的蒸发源；所述蒸镀设备还包括位于所述腔体内部的第一传感器和第二传感器；其中，所述第一传感器位于所述蒸发源上方，用于测试所述蒸发源的蒸发速率；所述第二传感器位于所述蒸发源的两侧的至少一侧处，用于测试所述蒸发源蒸发出的物质被所述腔体内部残留气体反射的反射速率。用于具有检测残留气体功能的蒸镀装置的制造。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供