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溅镀装置及基板处理装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201380062382.4
  • IPC分类号:C23C14/34
  • 申请日期:
    2013-08-23
  • 申请人:
    佳能安内华股份有限公司
著录项信息
专利名称溅镀装置及基板处理装置
申请号CN201380062382.4申请日期2013-08-23
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2015-07-29公开/公告号CN104812933A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C23C14/34IPC分类号C;2;3;C;1;4;/;3;4查看分类表>
申请人佳能安内华股份有限公司申请人地址
日本神奈川 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人佳能安内华股份有限公司当前权利人佳能安内华股份有限公司
发明人石原繁纪;户谷宽行;安松保志;中泽俊和;中村英司;须田真太郎;今井慎;藤本雄
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所代理人贾金岩
摘要
溅镀装置设有挡板单元、多个靶材保持器、以及能够围绕与保持基板的表面垂直的轴线旋转的基板保持器。挡板单元包括第一挡板和第二挡板,所述第一挡板具有第一开口及第二开口,所述第二挡板具有第三开口及第四开口。靶材保持器设置在以上述轴线为中心的第一假想圆上,沿着第一假想圆的靶材保持器之间的距离组包含至少两种距离。沿着第二假想圆的从前述第一开口的中心延伸到前述第二开口的中心的弧的中心角等于沿着第三假想圆的从前述第三开口的中心延伸到前述第四开口的中心的弧的中心角,并且还等于从第一靶材保持器的中心延伸到第二靶材保持器的中心的弧的中心角,所述第一靶材保持器和第二靶材保持器是沿着第一假想圆彼此最远离的靶材保持器。

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