制造光子晶体和光学元件的方法和设备

发明专利无效专利

申请号：
CN00137034.0
IPC分类号：G02F1/01;G02F1/015
申请日期：
2000-09-22
申请人：
株式会社东芝

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著录项信息

专利名称	制造光子晶体和光学元件的方法和设备
申请号	CN00137034.0	申请日期	2000-09-22
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2001-07-25	公开/公告号	CN1305118
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02F1/01 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02F 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器〔2，4〕 G02F1/00 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学〔2，4〕 G02F1/01 对强度、相位、偏振或颜色的控制（G02F 1/29、G02F 1/35优先）〔2，7〕	IPC分类号	G;0;2;F;1;/;0;1;;;G;0;2;F;1;/;0;1;5查看分类表>
申请人	株式会社东芝	申请人地址	日本神奈川县变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	株式会社东芝	当前权利人	株式会社东芝
发明人	市村厚一;平冈俊郎
代理机构	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所	代理人	马浩

摘要

一种制造包括光子晶体的光学元件的方法和设备，所述方法包括：产生具有三维周期性结构的第一光场的步骤，其中光强度按照光波长数量级的第一周期在空间中变化，所述三维周期性结构具有点阵点，在点阵点中的光强度高于所述周围的光强度；将其折射率可由辐照光的强度或在光辐照后进行的预定处理而改变的光学介质，曝露于所述第一光场一个给定的周期的步骤；将该光学介质在第一光场中移动光波长数量级的微小距离的步骤；以及将该光学介质曝露于第二光场中，在该第二光场中，光强度按照光波长数量级的周期在空间中变化，以形成该光子晶体的三维点阵结构的第二部分的步骤。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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