一种双磨头数控圆台平面磨床

实用新型专利无效专利

申请号：
CN201420571357.0
IPC分类号：B24B27/00;B24B7/10
申请日期：
2014-09-30
申请人：
浙江华祥皮革有限公司

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著录项信息

专利名称	一种双磨头数控圆台平面磨床
申请号	CN201420571357.0	申请日期	2014-09-30
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B24B27/00 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B2 成型 B24 磨削；抛光 B24B 用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F 3/00）；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给 B24B27/00 其他磨床或装置	IPC分类号	B;2;4;B;2;7;/;0;0;;;B;2;4;B;7;/;1;0查看分类表>
申请人	浙江华祥皮革有限公司	申请人地址	浙江省湖州市安吉县溪龙乡东村工业区浙江华祥皮革有限公司变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	浙江华祥皮革有限公司	当前权利人	浙江华祥皮革有限公司
发明人	曹忠德
代理机构	湖州金卫知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	裴金华

摘要

一种双磨头数控圆台平面磨床，包括工作台、设置于工作台内自由转动的吸盘、设置于工作台一侧的机架、与所述机架固定连接的导轨架、左右对称设置于导轨架上的X轴导向装置和Y轴导向装置；所述X轴导向装置和Y轴导向装置采用结构相同的导向机构，而X轴导向装置包括与工作台水平设置卧式磨头，Y轴导向装置包括与工作台垂直设置的立式磨头。本平面磨床减小磨削行程，缩小整体结构，使得整体结构更加稳重紧凑。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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