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获得快闪存储单元电容耦合率的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201010164928.5
  • IPC分类号:G11C16/08
  • 申请日期:
    2010-04-29
  • 申请人:
    上海宏力半导体制造有限公司
著录项信息
专利名称获得快闪存储单元电容耦合率的方法
申请号CN201010164928.5申请日期2010-04-29
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2010-10-20公开/公告号CN101866691A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G11C16/08IPC分类号G;1;1;C;1;6;/;0;8查看分类表>
申请人上海宏力半导体制造有限公司申请人地址
上海市张江高科技园区祖冲之路1399号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海华虹宏力半导体制造有限公司当前权利人上海华虹宏力半导体制造有限公司
发明人胡剑;顾靖;张博;孔蔚然;吴小利
代理机构上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)代理人郑玮
摘要
本发明的获得快闪存储单元电容耦合率的方法包括以下步骤:步骤1,获取浮动栅与字线之间的电容耦合率;步骤2,在两种不同条件下测量快闪存储单元的擦除电压;步骤3,利用公式CRFG-WL+(CRFG-SUB+CRFG-SL)+CRFG-CG=1以及公式(1-CRFG-WL)(Verase1-Verase2)=CRFG-SUB(VSUB1-VSUB2)+CRFG-SL(VSL1-VSL2)+CRFG-CG(VCG1-VCG2)计算出相应电容耦合率;步骤4,返回步骤2。本发明的获得快闪存储单元电容耦合率的方法简单方便。

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