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一种利用铜铟镓硒合金旋转溅射靶材生产铜铟镓硒薄膜的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201310100735.7
  • IPC分类号:H01L31/18;C23C14/34
  • 申请日期:
    2013-03-26
  • 申请人:
    无锡舒玛天科新能源技术有限公司
著录项信息
专利名称一种利用铜铟镓硒合金旋转溅射靶材生产铜铟镓硒薄膜的方法
申请号CN201310100735.7申请日期2013-03-26
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2013-06-26公开/公告号CN103178162A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L31/18IPC分类号H;0;1;L;3;1;/;1;8;;;C;2;3;C;1;4;/;3;4查看分类表>
申请人无锡舒玛天科新能源技术有限公司申请人地址
江苏省东台市城东新区经一路88号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人江苏超品光电技术有限公司当前权利人江苏超品光电技术有限公司
发明人徐从康
代理机构南京苏高专利商标事务所(普通合伙)代理人柏尚春
摘要
本发明提供了一种利用铜铟镓硒合金旋转溅射靶材生产铜铟镓硒薄膜的方法,包括以下步骤:以铜铟镓硒合金旋转溅射靶材作为靶材在基底上溅射形成第一贫铜层;以铜铟镓硒合金旋转溅射靶材作为靶材在第一贫铜层上溅射形成富铜层;以铜铟镓硒合金旋转溅射靶材作为靶材在富铜层上溅射形成第二贫铜层,即得。该生产方法将共蒸镀三步工艺法和非真空内部吸收层连结结构法结合,不仅能够显著的提升原材料利用率、成本低,而且溅射工艺过程中沉积速率快,同时还将在铜铟镓硒吸收层中形成优化的镓梯度结构和纳米畴p-n结内吸收层连结结构IAJ,生产出的铜铟镓硒薄膜效率高、面积大、均匀度高。

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