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硅片表面的氮化硅膜的清洗液及清除方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201210365546.8
  • IPC分类号:B08B3/08;B08B3/02;C11D7/10;C11D7/08
  • 申请日期:
    2012-09-27
  • 申请人:
    英利能源(中国)有限公司
著录项信息
专利名称硅片表面的氮化硅膜的清洗液及清除方法
申请号CN201210365546.8申请日期2012-09-27
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2013-02-13公开/公告号CN102921665A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B08B3/08IPC分类号B;0;8;B;3;/;0;8;;;B;0;8;B;3;/;0;2;;;C;1;1;D;7;/;1;0;;;C;1;1;D;7;/;0;8查看分类表>
申请人英利能源(中国)有限公司申请人地址
河北省保定市朝阳北大街3399号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人英利能源(中国)有限公司当前权利人英利能源(中国)有限公司
发明人王振如
代理机构北京康信知识产权代理有限责任公司代理人吴贵明;张永明
摘要
本发明公开了一种硅片表面的氮化硅膜的清洗液及清除方法。该方法包括以下步骤:采用清洗液清除硅片表面的氮化硅膜,其中清洗液含有质量比为1∶90~130的高锰酸钾和氢氟酸。应用本发明的技术方案,采用高锰酸钾和氢氟酸按照1∶90~130的质量比溶于水中配制成的清洗液对不合格的硅片(掉渣片或彩虹片)表面的氮化硅膜进行清洗,不仅可以去除表面的氮化硅膜,同时还能保证硅片的厚度,并且对硅片的腐蚀不受反应时间长短的影响。

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