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一种自对准形成上电极的WOX电阻存储器及其制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200710045938.5
  • IPC分类号:H01L27/24;H01L45/00;H01L21/82
  • 申请日期:
    2007-09-13
  • 申请人:
    复旦大学
著录项信息
专利名称一种自对准形成上电极的WOX电阻存储器及其制造方法
申请号CN200710045938.5申请日期2007-09-13
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2008-04-09公开/公告号CN101159284
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/24IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;2;4;;;H;0;1;L;4;5;/;0;0;;;H;0;1;L;2;1;/;8;2查看分类表>
申请人复旦大学申请人地址
上海市邯郸路220号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人复旦大学当前权利人复旦大学
发明人林殷茵;吕杭炳;唐立;尹明;宋雅丽;陈邦明
代理机构上海正旦专利代理有限公司代理人陆飞;盛志范
摘要
本发明属微电子技术领域,具体提供了一种以自对准形成上电极的WOx电阻存储器及制造方法。所述的存储器包括:下电极为铝互连工艺中层间钨栓塞,在钨栓塞上方形成的牺牲介质层和在牺牲介质层中形成的孔洞,位于孔洞中的钨栓塞氧化形成的WOx存储介质,以自对准方式形成金属上电极于所述的WOx存储介质之上和所述的牺牲介质层孔洞之中。在制作所述的电阻存储器时,以自对准形成的金属上电极层,无需为制作上电极图形增加掩膜和光刻步骤,减少工艺复杂度,可提高存储性能的可靠性和降低工艺成本。

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