一种折反射投影光学系统

发明专利有效专利

申请号：
CN200710173571.5
IPC分类号：G02B17/08;G02B1/02;G03B21/00
申请日期：
2007-12-28
申请人：
上海微电子装备有限公司

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著录项信息

专利名称	一种折反射投影光学系统
申请号	CN200710173571.5	申请日期	2007-12-28
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2008-07-09	公开/公告号	CN101216597
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02B17/08 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02B 光学元件、系统或仪器（G02F优先；专用于照明装置或系统的光学元件入F21V 1/00至F21V 13/00；测量仪器见G01类的有关小类，例如，光学测距仪入G01C；光学元件、系统或仪器的测试入G01M 11/00；眼镜入G02C；摄影、放映或观看用的装置或设备入G03B；声透镜入G10K 11/30；电子和离子“光学”入H01J；X射线“光学”入H01J，H05G 1/00；结构上与放电管相组合的光学元件入H01J 5/16，H01J 29/89，H01J 37/22；微波“光学”入H01Q；光学元件与电视接收机的组合装置入H04N 5/72；彩色电视系统中的光学系统或装置入H04N 9/00；专门适用于透明或反射区的加热装置入H05B 3/84）〔1，7〕 G02B17/00 有或无折射元件的具有反射面的系统（显微镜入G02B 21/00；望远镜、潜望镜入G02B 23/00；其他位置不包括的光束整形入G02B 27/09光束分解或合成入G02B 27/10；光学投影入G02B 27/18）〔6〕 G02B17/08 折反射系统	IPC分类号	G;0;2;B;1;7;/;0;8;;;G;0;2;B;1;/;0;2;;;G;0;3;B;2;1;/;0;0查看分类表>
申请人	上海微电子装备有限公司	申请人地址	上海市张江高科技园区张东路1525号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	上海微电子装备（集团）股份有限公司	当前权利人	上海微电子装备（集团）股份有限公司
发明人	蔡燕民
代理机构	上海思微知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	屈蘅;李时云

摘要

本发明提供了一种折反射投影光学系统，用于将置于其物平面内的图形成像到其像平面内，沿其光轴方向依次包括前(后)组、凹球面反射镜。上述前组与后组共用同一组光学元件，沿其光轴方向依次包括直角反射棱镜，第一双凸正透镜，第一弯月厚透镜，第二弯月厚透镜，及三片式光学结构。该凹球面反射镜，其上设置有孔径光阑，使本投影光学系统形成放大倍率为-1倍的完全对称式结构。因而，采用本发明的折反射投影光学系统，不仅能有效地校正像差，提升成像质量；而且可以有效地压缩该投影光学系统的总长，同时实现较长的工作距离。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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