加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

Al2O3包覆δ-MnO2纳米片阵列复合材料及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201810681360.0
  • IPC分类号:H01M4/36;H01M4/50;H01M4/48;H01M4/62;H01M10/36;B82Y30/00;B82Y40/00
  • 申请日期:
    2018-06-27
  • 申请人:
    南京理工大学
著录项信息
专利名称Al2O3包覆δ-MnO2纳米片阵列复合材料及其制备方法
申请号CN201810681360.0申请日期2018-06-27
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-01-03公开/公告号CN110649231A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01M4/36IPC分类号H;0;1;M;4;/;3;6;;;H;0;1;M;4;/;5;0;;;H;0;1;M;4;/;4;8;;;H;0;1;M;4;/;6;2;;;H;0;1;M;1;0;/;3;6;;;B;8;2;Y;3;0;/;0;0;;;B;8;2;Y;4;0;/;0;0查看分类表>
申请人南京理工大学申请人地址
江苏省南京市孝陵卫200号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人南京理工大学当前权利人南京理工大学
发明人夏晖;林宝伟;房灵哲;徐璟
代理机构南京理工大学专利中心代理人刘海霞
摘要
本发明公开了一种Al2O3包覆δ‑MnO2纳米片阵列复合材料及其制备方法。所述方法按KMnO4与KF的摩尔比为1:2~6,将KMnO4溶液和KF溶液混合,用稀H2SO4调节pH至1~3,加入基底材料,于100℃~140℃下进行水热反应制得δ‑MnO2纳米片阵列,然后在80℃~300℃下,以三甲基铝和水为前驱体通过原子层沉积在δ‑MnO2纳米片上沉积AI2O3薄膜,得到Al2O3包覆δ‑MnO2纳米片阵列复合材料。本发明在不破坏材料原有结构的基础上,在材料表面沉积几个纳米厚度的保护层,提高离子传输能力的同时抑制了水解,使得材料的电位窗口得以扩宽,并因此提高了可逆容量,倍率性能以及循环稳定性。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供