多层膜的成膜方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201780035507.2
IPC分类号：C23C14/54;B32B37/00;C23C14/56
申请日期：
2017-06-02
申请人：
日东电工株式会社

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著录项信息

专利名称	多层膜的成膜方法
申请号	CN201780035507.2	申请日期	2017-06-02
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2019-02-05	公开/公告号	CN109312454A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/54 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/54 镀覆工艺的控制或调节〔4〕〔4，2006.01〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;5;4;;;B;3;2;B;3;7;/;0;0;;;C;2;3;C;1;4;/;5;6查看分类表>
申请人	日东电工株式会社	申请人地址	日本大阪府变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	日东电工株式会社	当前权利人	日东电工株式会社
发明人	首藤俊介;佐木晓
代理机构	北京林达刘知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	刘新宇

摘要

在将构成多层膜的各层隔开时间间隔地逐层地进行层叠的多层膜的成膜方法中，实现不浪费材料和时间的各层的膜厚修正。多层膜的成膜方法包括以下步骤：设定各层的膜厚的目标值(目标膜厚值)；求出所形成的多层膜(6)的各层的估计膜厚(估计膜厚值)；求出各层的成膜参数变更量，该各层的成膜参数变更量用于使各层的目标膜厚值与估计膜厚值之差最小化；以及隔开时间间隔地将各层的成膜参数依次变更与各层的成膜参数变更量相应的量。

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